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连续式磁控溅射镀膜设备
该系列生产线主要用于在平板玻璃、压克力、PC、PET等表面镀高质量、多功能金属膜、电磁屏蔽膜、反应膜、复合膜、透明导电膜、抗反射（AR）、增反射膜、LOW-E等膜层。本公司可按用户要求提供设计，提供全套设备，负责工艺，按交“钥匙”工程服务。
设备特点：
1、设备采用真空磁控溅射技术，孪生阴极，中频溅射技术，并配以先进的控制系统。
2、生产过程全部自动，连续进行。被镀工件加热温度最高可达350℃，温度分区控制可调。
3、真空室体材料采用SUS304，真空室内壁进行抛光处理，外壁采用抛光后喷涂处理。
4、真空室之间采用独立门阀隔开，我们设计的是插板阀，可以有效隔断，稳定工艺气体。目前国内只有我们公司具有这项技术设计生产插板阀，它比目前国内通用的翻板阀密封效果更好，更耐用。
5、传动采用磁导向，保障传动的稳定性。整条生产线的各段速度采用变频调速电机驱动，运行速度可调节。
6、电气控制系统：触摸屏与PLC自动控制，人机对话方式来实现系统的数据显示、操作与控制。
7、主要技术参数：
极限真空7×10-4PA
平均生产周期：80秒/架
基片架尺寸：850×1500（mm）（可以根据要求定做）
膜层均匀性：±2%
膜层稳定性：达到国际标准。
连续式磁控溅射平板玻璃镀膜机